中国连原子弹都可以造出来,为什么造不出光刻


中国连原子弹都可以造出来,为什么造不出光刻机?
 
首先要纠正一个说法,中国并不是造不出光刻机,而是目前暂时造不出高端光刻机,比如上海微电子已经可以造出90nm制程的光刻机,而且据传其将在2021-2022年交付第一台28nm制程的光刻机,但这相比目前业界最领先的荷兰ASML公司的7nm甚至5nm EUV光刻机,还有很大的差距。现在最高端的旗舰手机的SOC芯片已经是5nm制程,28nm制程不能满足消费市场竞争的需求。
 
所以我们要讨论的不仅是能不能造,更是够不够好。
 
原子弹作为一个军事战略层面的话题,能不能造是核心。原子弹在实现了理论突破后,只要攻克了高浓度核原料和离心机等工程难点,就可以引爆,原子弹就算造出来了,它的战略威慑作用就达到了;至于原子弹的当量有多大、航程有多远、精度怎么样,都是够不够好的问题,可以留待以后慢慢解决,即它的技术迭代周期可能会更长。
 
但光刻机不一样,单是做出来是不够的,必须要足够好才有意义。除了国家军事安全,光刻机还事关全球化背景下的国家经济安全和商业竞争。半导体产业是一个“赢者通吃”的全球性行业,例如,在竞争最激烈的手机市场,如果竞争对手的旗舰手机SOC芯片采用的是最先进的7nm或5nm工艺制程,而你还在用14nm,那你的手机性能肯定会落后,就会丧失市场竞争力。就像现在Intel最新的电脑CPU已经是11代i7了,用i3处理器的电脑,不可能占领高端市场。所以,光刻机的性能要达到与业界最领先的竞争对手差不多的水平,才有竞争力,这意味着光刻机的技术迭代速度要远远高于原子弹的技术迭代速度,大大增加了光刻机的技术发展难度。
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